Asosiy maqsad

　　Funksional polimer materiallar monomerlari:

　　Polip-gidroksistiren (PHS) fotorezistentning asosiy xom ashyosi bo‘lib, ayniqsa yarim o‘tkazgichlar ishlab chiqarishda PHS kimyoviy modifikatsiyadan so‘ng ultrabinafsha nurlar fotorezistentining asosi sifatida ishlatilishi mumkin, yuqori o‘tkazuvchanlik va nishlanishga chidamlilikka ega.

　　Ion almashinuvchi smolalar, adsorbsion smolalar tayyorlash uchun (fenol gidroksil guruhining qutbli molekulalarni adsorbsiya qilish xususiyatidan foydalanib).

　　Organik sintez oraliq mahsulotlari:

　　Dorivor vositalar, pestitsidlar oraliq mahsulotlarini sintez qilish uchun (masalan, antibakterial vositalar, yallig‘lanishga qarshi dorilar prekursorlari).

　　Esterlashish yoki alkilashish reaksiyalari orqali funksional monomerlar olish, qoplamalar, yopishtiruvchi moddalar tayyorlash uchun (qutbli asoslarga yopishqoqligini oshirish uchun).

　　Boshqa qo‘llanmalar:

　　Polimerlarni modifikatsiya qilish uchun o‘zaro bog‘lovchi vosita sifatida, fenol gidroksil guruhining izosiyanatlar, epoksid smolalar va boshqalar bilan reaksiyaga kirishishi orqali materiallarning mexanik xususiyatlarini va kimyoviy chidamliligini oshirish.

　　Fluoresans zondlari, sensorlar tayyorlash uchun (fenol gidroksil guruhining metall ionlarini aniqlash xususiyatidan foydalanib)

CAS NO：2628-17-3

EC NO：220-103-6

Molekula formulasi：C₈H₈O

Molekula massasi：120.15

Boshqa nomlari：;4-gidroksistiren; 4-vinilfenol; p-gidroksistiren;

Tuzilma formulasi：